Экспертные заключения: 0
Консультации: 0

Разработка и оптимизация технологии получения проводящих дорожек на основе нанометровых пленок меди методом молекулярно-слоевого осаждения

Технология нанесения проводящих дорожек это высокотехнологичный продукт, который помогает предприятиям, производящим микроэлектронику (микрочипы, транзисторы, микросхемы) решать проблему оптимизации процесса нанесения покрытий, а также преодолевать технологические ограничения, что позволяет значительно сократить издержки.


Целевая аудитория: 
Предприятия, производящие микроэлектронику (микрочипы, транзисторы, микросхемы). 

Проблема: Предприятия испытывают острую потребность в сокращении издержек и оптимизации процесса нанесения покрытий и указывают на множественные технологические проблемы, ведущие к финансовым потерям связанным с качеством выпускаемой продукции. Проблемы осаждения меди на разных поверхностях включают сложность равномерного и конформного осаждения пленок меди на поверхностях со сложной топографией и постепенное окисление медных проводящих пленок.

Решение: Для решения данной проблемы в нашем проекте мы предлагаем следующее. На начальном этапе мы осуществляем молекулярно-слоевое осаждение пленок меди на субстрате, на втором этапе проводим атомно-слоевое осаждение пленок оксида алюминия. Данная технология позволяет: во-первых – наносить конформные и равномерные слои меди на сложную поверхность и во-вторых – оберегать пленку меди от окислительных процессов благодаря покрытию меди пленкой инертного оксида алюминия.

Технология: Молекулярно-слоевое осаждение (МСО) – это метод осаждения из паровой фазы органических тонких пленок за счет циклических повторяющихся термически-стимулированных поверхностных реакций двух и более прекурсоров. Данный метод осаждения тонких пленок известен на западе как Molecular Layer Deposition (MLD). Аналогом в нашей стране является метод Молекулярного Наслаивания (МН). Особенностью МСО технологии является обеспечение точного контроля толщины, состава и высокой конформности осаждаемых пленок, как на наноструктурированных плоских подложках, так и дисперсных материалах. Использование МСО на кремниевой подложке для синтеза пленок меди создает возможности получения гетероструктур, имеющих важное практическое значение для микро- и наноэлектроники. Предполагается, что полученные по технологии молекулярно-слоевого осаждения пленки будут иметь высокую конформность и равномерность в независимости от степени сложности осаждаемой поверхности.

Сейчас: Разработан прототип и технология нанесения покрытий, проведен анализ рынка и конкурентов, построена финансовая модель и набрана кросс-функциональная компетентная команда.

В будущем: Лидирующее предприятие по предоставлению услуг нанесения покрытий и научно-производственный центр, занимающийся соверешенствованием технологии нанесения покрытий и встраиванием ее в технологические цепочки предприятий.

Запрос: Мы готовы рассмотреть инвестиционные предложения от 20 млн. руб. для серийного производства.

Ссылка

На страницу проекта

Направление

IT, Наука, Химическая промышленность

Рынки

TechNet

Сквозные технологии

Технологии моделирования и разработки материалов с заданными свойствами, Технологии компонентов робототехники и мехатроники