Аннотация: Совершенствование современных технологий модификации поверхностных свойств материалов электронной промышленности стимулирует разработку новых плазменных источников электронных пучков без использования громоздких и сложных электронных ускорителей электронов. Данный проект направлен на разработку плазменного источника ленточных электронных пучков на основе высоковольтных наносекундных разрядов с газоразрядных системах с полым катодом.

Цель проекта: Разработка плазменного источника ленточных электронных пучков при средних давлениях газа.

Задачи проекта:

1. Разработка цифрового двойника источника ленточных электронных пучков;
2. Разработка прототипа источника ленточных электронных пучков;
3. Тестирование источника ленточных электронных пучков.

Ожидаемые результаты:

Плазменный источник ленточных электронных пучков с энергией электронов до 1 кЭв.

Заинтересованные организации:

• Группа компаний МИКРОН
• АО НПП КВАНТ
• АО «Ангстрем»
• ООО «Крокус наноэлектроника»
• Институт физических проблем имени П. Л. Капицы РАН

Основные конкуренты

• Eindhoven University of Technology, PO Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands
• Oxford Instruments Plasma Technology, North End, Bristol, BS49 4AP, United Kingdom
• University of Illinois Department of Electrical and Computer Engineering Urbana, IL 61801
• U.S. Naval Research Laboratory, 4555. Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375
• Syntek Technologies, 2751 Prosperity Ave. Suite 460 Fairfax, Virginia 22031
• ONR Global, 86 Blenheim Cres, Ruislip HA4 7HB, United Kingdom
• Mechatronics R&D Center, Samsung Electronics Co., Ltd, 1-1 Samsungjeonja-ro, Hwaseong-si, Gyeonggi-do 18448, South Korea
• Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 1301 Beal Ave., Ann Arbor, Michigan 48109-2122

Конкурентные преимущества

• Обеспечивает создание источника ленточного электронного пучка без использования дорогостоящих электронных ускорителей

На страницу проекта