В ноу-хау описан способ создания контролируемого угла наклона стенок в оптическом фоторезисте. Предлагаемый способ позволяет получать маскирующее изображение в резисте переменной высоты клинообразной, вогнутой или выпуклой сферической формы, набор из наклонных плоскостей или другой рельеф, созданный комбинацией этих форм в резисте в одностадийном процессе экспонирования. Использование предложенного способа позволяет контролируемым образом получать недостижимый ранее положительный наклон профиля в фоторезисте в диапазоне углов 12о-80о. Создание положительного наклона стенок резиста открывает возможности для создания ряда новых 3D элементов фотоники, наноэлектроники.