Контроль сопротивления тонких пленок является ключевым при создании пассивных элементов микроэлектроники - проводников, резисторов. Сопротивления формируемой тонкой пленки зависит от множества факторов, поэтому контроль сопротивления должен осуществляться в процессе формирования пленки. Традиционно для контроля сопротивления используется метод измерения сопротивления "по свидетелю". Свидетель это прямоугольная подложка с нанесенными электродами. Электроды подключаются к измерителю сопротивления. В процессе формирования одновременно в одинаковых условиях пленка растет на подложке и на свидетеле, таким образом сопротивление у них одинаковая. Метод магнетронного распыления приобретает все большую популярность у производителей микроэлектроники, однако традиционно используемые устройства не подходят, т.к. рост пленок осуществляется в условиях воздействия плазмы, что сильно сказывается на результаты измеренинй.

Проект направлен на создание устройства контроля сопротивления тонких пленок в процессе их получения методом магнетронного распыления.

На страницу проекта