технология нанесения конформных функциональных оксидных нанопокрытий (Al₂O₃, TiO₂, композитные слои Al₂O₃/TiO₂) на стекловолокно методом атомно-слоевого осаждения с применением бес-плазменной химической активации поверхности. Технология будет включать утверждённый регламент подготовки подложки, оптимизированные режимы ALD-процесса (температура 80–150 °C, точность контроля толщины ±0,1 нм, конформность покрытия ≥95%) и методику выходного контроля качества. Функционал технологии будет обеспечивать нанесение покрытий толщиной 10–100 нм с увеличением межфазной прочности сдвига на 30–50%, снижением влагопоглощения композита на 40–60% и фотокаталитической активностью ≥80% за 60 мин (для TiO₂-слоёв).

На страницу проекта